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セミナーのご案内 《他社主催セミナー》

【Live配信】リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術、今後の展望
2022-01-31
主 催  サイエンス&テクノロジー株式会社
日 時  2022年1月31日(月) 10:30~16:30
講 師  神奈川大学 工学部 講師
     鴨志田 洋一 氏
  【専門】リソグラフィ材料、機能性高分子、高分子合成、
      知的財産権、コーポレートガバナンス
 
聴講料  1名につき49,500円(税込、資料付き)
 
【2名同時申し込みで1名分無料】
※2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
 
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
 1名申込みの場合:受講料 35,200円(税込)
 
【ZOOMによるLive配信】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。

受講の詳細および請求書等は、サイエンス&テクノロジー株式会社よりご案内します。
◆受講料は、銀行振込(開催日まで)、もしくは当日現金にてお支払い下さい。
◆お申し込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご出席が可能です。
 キャンセルの場合は、サイエンス&テクノロジー株式会社の規定が適用されます。
 
 ◆セミナー趣旨
 今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。MEは、
1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、
高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展
してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの
大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。
このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が
中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を
中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
  レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に
用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざま
な試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の
延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術
変革を経験している。 
 1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立 
 2) 投影露光方式の導入 
 3) 化学増幅型レジスト/エキシマレーザ光源の採用 
 4) EUV光源の採用など 
 それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。
ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良
防止・トラブル対策への応用への指針とする。あわせて、日本の今後の半導体関連産業の
在り方についても考察する。

◆セミナー講演内容 
1.技術パラダイムシフトと半導体集積回路 
 1-1 科学技術の発展 
 1-2 技術パラダイムシフト 
 1.3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会 
 1.4 MEの黎明期とフォトレジスト 
2.フォトレジストの本流 
 2-1 ゴム系ネガ型フォトレジスト 
  (1) リソグラフィプロセスの確立  
  (2) 基本的構造及び製造法 
 2-2 ノボラック系ポジ型レジスト  
  (1) 基本的組成  
  (2) マトリックス樹脂製法、感光性化合物  
  (3) レジストの透明性と解像度  
  (4) i-線レジスト  
  (5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理  
  (6) レジストの溶剤と環境への影響  
  (7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション 
3.フォトレジストの裏街道 
 3-1 X線レジスト 
 3-2 Top Surface Imaging:DESIRE 
 3-3 Deep UVリソグラフィ  
  (1) 黎明期のレジスト  
  (2) 化学増幅型レジスト  
  (3) 光酸発生剤 
4.エキシマレーザリソグラフィ  
  4-1 KrFレジスト  
  (1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題  
  (2) 光源・光学系の課題  
  (3) 化学増幅型レジストの課題  
  (4) 材料からの改良  
  (5) プロセス面からの改良  
  (6) 実用化されたレジスト材料 
 4-2 ArFレジスト  
  (1) ArFレジスト実現への課題 
 4-3 液浸リソグラフィ 
5.EUVリソグラフィ 
 5-1 光源・露光機の開発 
 5-2 レジスト開発 
6.今後の展望 
 6-1 現像プロセスの考え方  
7.フラットパネルディスプレイ材料 
8.実装材料(ポリイミド) 
9.効率的にイノベーションを創出するために 
10.まとめ  
 □ 質疑応答 □
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