本文へ移動

セミナーのご案内 《他社主催セミナー》

薄膜作製の基礎とトラブル対策【LIVE配信】
2020-08-19
主 催  株式会社R&D支援センター
日 時  2020年08月19日(水)10:30~16:30
 ※本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 
聴講料  1名につき 55,000円(税込、資料付き)
    ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、
     計55,000円(2人目無料)です。
 
講 師  三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学)
     佐藤 英樹 氏
      【ご専門】 薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
 
  ◆受講証及び請求書は、株式会社R&D支援センターよりお送りします。
  ◆受講料は、銀行振込にて、原則として開催日までにお支払い下さい。
  ◆お申し込み後はキャンセルできません。
  ご都合が悪くなった場合は代理の方がご出席ください。
 
 
◆講座の内容◆
 
【受講対象・レベル】
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
 
【必要な予備知識】
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
 
【習得できる知識】
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
 
【趣旨】
 スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
 本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
 
【プログラム】
1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
 1-1. 気体分子運動論の基礎
 1-2. 真空工学の基礎
 1-3. 表面物性工学の基礎
2.真空蒸着法
 2-1. 真空蒸着法の原理
 2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
 2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
 2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
3.スパッタ法
 3-1. スパッタ法の原理
 3-2. スパッタ法の種類と装置例
 3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
 3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項
4.化学気相成長(CVD)法
 4-1. CVD法の原理 
 4-2. CVD法の種類と装置例
 4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
 4-4. CVD法を適用する際の留意事項
5.薄膜評価法
 5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
 5-2 膜組成、膜構造
 5-3 付着力、膜応力
 5-4 電気的特性、光学的特性
6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
 6-1 膜質に関するトラブル
 6-2 装置に関するトラブル
 
TOPへ戻る