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JMSセミナー:最先端半導体リソグラフィー技術であるEUVリソグラフィ技術の開発動向

最先端半導体リソグラフィー技術であるEUVリソグラフィ技術の開発動向

2024-03-26 ★Webセミナーにて開催いたします★

 最先端の半導体リソグラフィー技術であるEUVリソグラフィ技術の開発動向について詳細に解説して頂くことによって、関連業界の方々の今後の事業に役立てていただくことを目的とします。
(※講演タイトルを修正いたしました。)

主 催 株式会社ジャパンマーケティングサーベイ 
日 時 2024年3月26日 (火) 9:55~16:00
 ★Webセミナー(Zoomウェビナーによるライブ配信)として開催いたします。
  会場での受講はありません。 
聴講料 1名様 49,500円(税込) テキストを含む 
定 員 50名
講演テーマ/講師/タイムテーブル(予定)

「最先端半導体リソグラフィー技術であるEUVリソグラフィ技術の開発動向」
兵庫県立大学 
学長別補佐(先端研究担当)産学連携・研究推進機構 放射光産業利用支援本部 本部長代行
高度産業科学技術研究所長特別補佐 極端紫外線リソグラフィー研究センター長 教授 理学博士
渡邊 健夫 氏

 10:00~12:00 前半
 12:00~13:00 休憩 (1時間)
 13:00~16:00 後半
  ※講演中、適宜休憩(5分~10分程度)を設けます。 
  ※質疑応答(5分程度)を設けます。 
 
セミナーを申し込む ※お申込みの詳細は、プログラムの下部をご参照ください。
 
◆講演内容◆  
「最先端半導体リソグラフィー技術であるEUVリソグラフィ技術の開発動向」
 兵庫県立大学  渡邊 健夫 氏

 EUVリソグラフィ(EUVL)技術は2019年より7nm+のロジックデバイスの量産技術として使用が開始された。
先端半導体製造では前工程の3次元構造トランジスタ素子技術、並びに後工程の3次元実装が重要な技術となっている。
この中で前工程の微細加工技術ではIRDSのロードマップによると2037年の0.5nm世代までEUVLが量産技術として
使用されることになっている。さらなる微細化に向けたEUVリソグラフィ技術課題は、EUVレジスト開発、無欠陥EUV
マスク開発、EUVペリクル開発、ならびにEUV光源開発技術である。これらの技術の現状、それぞれの課題に向けた
取り組みの現状、並びに次世代のリソグラフィも含めたHigh NA EUVリソグラフィ、並びにEUVリソグラフィの
短波長化であるBEUVリソグラフィの可能性を含め、今後の展開について解説する。

 1.はじめに(半導体の市場と微細加工の必要性) 
 2.EUVリソグラフィの技術課題 
 3.EUVレジスト材料・プロセス技術 
 4.EUVマスク技術(EUVマスク欠陥検査とペリクルを含む) 
 5.High NA EUVLリソグラフィの課題 
 6.BEUVリソグラフィ技術の可能性 
 7.まとめ

◆申し込み要項◆
□申し込み方法
 弊社ウェブサイトのセミナー申込ページ、または講演会パンフレットの申込書に所定事項をご記入の上、弊社宛てに送信もしくはFAXお願い致します。
 申し込み書受領後、請求書を郵送致します。またWebセミナーの視聴方法について詳細をご案内いたします。
□お支払い
 請求書に記載されている弊社指定口座に、請求日の1ヶ月以内にお振込みをお願い申し上げます。
□キャンセル
 開催日の11日前まで:無料にてキャンセルする事が出来ます。
 開催日の10日以内のキャンセルにつきましては、全額申し受けさせて頂きます。
□特記事項
 講演会は受講者数が規定に達しない場合中止する場合があります。
 尚、請求書は開催が決定した場合のみ送付いたします。
 写真撮影、録音、録画を禁止いたします。
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