半導体分野の調査レポート＆セミナー
【Live配信】EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
2026-04-17
カテゴリ：半導体
主 催 サイエンス＆テクノロジー株式会社
日 時 2026年4月17日（金） 13:00～16:00
講 師 大阪公立大学 大学院 工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
聴講料 49,500円（税込、資料付き）
◆受講の詳細および請求書等は、サイエンス＆テクノロジー株式会社よりご案内します。
◆受講料は、銀行振込（開催日まで）にてお支払い下さい。
◆お申し込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご出席が可能です。
キャンセルの場合は、サイエンス＆テクノロジー株式会社の規定が適用されます。
◆受講料は、銀行振込（開催日まで）にてお支払い下さい。
◆お申し込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご出席が可能です。
キャンセルの場合は、サイエンス＆テクノロジー株式会社の規定が適用されます。
【セミナー趣旨】
情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT(Internet of Things) やIoE(Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。
これらの発展はメモリやCPU(中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。
【セミナー講演内容】
１．EUVLの概要
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト
２．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置
３．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3 屈折率nk測定
3.4 EUV2光束干渉露光
４．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点
５．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
６．「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」聴講報告（特にEUVに関しての最新技術）
□質疑応答□
