最先端リソグラフィ/レジスト材料の開発動向
★新日程 2023-11-30★Webセミナーにて開催いたします
EUVリソグラフィと光源の開発動向、およびレジスト・微細加工材料の開発動向について詳細に解説して頂くことによって、関連業界の方々の今後の事業に役立てていただくことを目的とします。
主 催 株式会社ジャパンマーケティングサーベイ
日 時 2023年11月30日（木） 9：55～16：00
★Webセミナー（Zoomウェビナーによるライブ配信）として開催いたします。
会場での受講はありません。
聴講料 1名様 54,780円（税込） テキストを含む
定 員 ５０名
◆講演内容
1. EUVリソグラフィと光源の開発動向
宇都宮大学 東口 武史 氏
１．EUVリソグラフィーとは
1.1 半導体素子の回路線幅の微細化と高集積化について最近の動向を簡単に
1.2 露光用光源とは
２．EUV光源について
2.1 EUV光源の原理
2.2 各種EUV光源
３．レーザー生成プラズマEUV光源
3.1 光源の物理と技術
3.2 装置構成
４．Beyond EUV (BEUV) 光源
4.1 beyond (BEUV) 光源とは？
4.2 BEUV光源の現状と課題
５．まとめ
６．今後の展開
2. レジスト・微細加工用材料の開発動向
大阪大学 遠藤 政孝 氏
本講演では、最新のロードマップを示した後、現在の3nmロジックノード等に用いられているレジスト・微細加工用材料の最先端技術（ダブル/マルチパターニング、EUVレジスト、ナノインプリント）と今後期待されているDSAリソグラフィについて、EUVレジストを中心にその要求特性、課題と対策をふまえて解説する。
EUVレジストでは注目されているメタルレジストの詳細も述べる。
最後に今後の技術展望、市場動向についてまとめる。
◆申し込み要項◆
□申し込み方法
弊社ホームページ及び講演会パンフレットの申込書に所定事項をご記入の上、弊社宛てに送信もしくはFAXお願い致します。
申し込み書受領後、請求書を郵送致します。またWebセミナーの視聴方法について詳細をご案内いたします。
□お支払い
請求書に記載されている弊社指定口座に、請求日の1ヶ月以内にお振込みをお願い申し上げます。
□キャンセル
開催日の11日前まで:無料にてキャンセルする事が出来ます。
開催日の10日以内のキャンセルにつきましては、全額申し受けさせて頂きます。
□特記事項
講演会は受講者数が規定に達しない場合中止する場合があります。
尚、請求書は開催が決定した場合のみ送付いたします。
写真撮影、録音、録画を禁止いたします。
